磁控多弧復合鍍膜設備-大連鍍膜設備-至成鍍膜設備生產廠家

在鍍膜的過程中，出現異樣具體該真么處理呢？
大家在鍍膜的過程中，可能有時候會發現，膜層上有時會出現白點的異樣發生，經過技術人員的檢測和排查，大部分都是因為產品周轉運輸或在爐內生產時素材受到污染，產品表面有塵點、毛絲等，pvd出爐后灰塵脫落露出底材顏色。所以大家在使用真空磁控濺射鍍膜機鍍膜過程中縮短產品在爐外停滯時間及爐內潔凈度管控，減少*掉落在產品表面。有時膜層也會出現掉膜（點狀掉膜、局部掉膜、邊緣掉膜）情況，不知道大家有沒有碰到過。它主要產生的原因是產品表面臟污，膜層無法在產品上沉積或結合力差，在自然或人為的因素下產品表面漏出底材，所以大家在鍍膜*定要把產品清洗干凈，避免污染產品，確保表面潔凈度。還有一種經常出現的情況，就是出現彩虹紋（產品發彩，出現這種情況主要原因是彩虹紋主要體現在顏色較深的產品上，因生產過程中形成一定角度遮擋，膜層無法均勻、有效的覆蓋在產品表面。因此鍍膜的時候，要更改更改裝夾方式，或者提高成膜能量。有的客戶會發現，產品鍍膜出來后會出現臟污情況，導致出現這個主要原因是產品出爐后周轉過程中因人為因素造成的表面污染,解決流程是產品pvd下掛、檢查、打包作業人員手套、指套潔凈度及環境管控。
多弧離子真空磁控濺射鍍膜機工作原理蒸發系統的結構與工作原理介紹
多弧離子鍍膜機是一種、無害、*的離子鍍膜設備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡略、本錢低、出產量大的長處。
真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業原理
離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關于導電靶材，運用直流偏壓電源；非導電靶材，運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源
偏壓電源正本即是在陰*和樣品所在位置的陽*之間構成偏壓電場，通常是陰*加負高壓。陰*外表的自由電子在電場效果下定向加快發射，發射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅出的電子被電場加快，持續電離別的氣體分子，接二連三，構成雪崩效應，氣體被擊穿，構成穩定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅除出外表，并堆積在樣品外表。
真空電鍍設備的監控方法1、目視監控：使用眼睛監控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現象會有顏色變化，我們就是根據顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準確，需要依靠經驗。2、*值監控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到*值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度nd是監控波長（入）的四分之一的整倍數。但是*值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在*值附近變化很慢，亦就是膜厚nd增加很多，r/t才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。3.定值監控法：此方法利用停鍍點不在監控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。